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Physical mechanism of performance adjustment in selective buried oxide n-MOSFETs

  • Qin Huang
  • , Renhua Liu
  • , Yabin Sun*
  • , Xiaojin Li
  • , Yanling Shi
  • , Changfeng Wang
  • , Duanduan Liao
  • , Ming Tian
  • *此作品的通讯作者
  • East China Normal University
  • Shanghai Huali Microelectronics Corporation

科研成果: 期刊稿件快报同行评审

源语言英语
文章编号69407
期刊Science China Information Sciences
62
6
DOI
出版状态已出版 - 1 6月 2019

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